金融界2024年10月26日消息,国家知识产权局信息显示,京东方华灿光电(苏州)有限公司申请一项名为“真空系统及化学气相沉积设备”的专利,公开号CN 118814132 A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,本公开提供了一种真空系统及化学气相沉积设备,属于半导体制备设备领域。该真空系统,应用于化学气相沉积设备,真空系统包括缓冲罐、多个真空泵、多个腔体连接管路和多个蝶阀;多个真空泵分别与缓冲罐相连;多个腔体连接管路的第一端分别与缓冲罐相连,多个腔体连接管路的第二端用于连接化学气相沉积设备的反应腔,每个腔体连接管路上安装有蝶阀。本公开能够提高化学气相沉积设备的工作效率。
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